投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目（方案设计、初步设计、施工图设计）招标

投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目（方案设计、初步设计、施工图设计）招标
联系人：袁先生手机：13021066931
招标编号： 招标编码：CBL_20210120_6962799943348224
开标时间： 标讯类别： 国内招标
资金来源： 其他                         
 公告内容
投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目（方案设计、初步设计、施工图设计）招标                               
（招标编号：S110000A001022910003）                               
一、招标条件
本招标项目 投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目（方案设计、初步设计、施工图设计）                已由                北京经济技术开发区行政审批局                以 关于北京国望光学科技有限公司投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目备案的通知                批准建设，招标人为 北京国望光学科技有限公司                投资额为                200000                万元，建设资金来源为 企业自筹                ，项目出资比例为                100%                。项目已具备招标条件，现进行公开招标               。
二、项目概况和招标范围
本次招标项目建设地点： 北京市经济技术开发区0606街区YZ00-0606-0024地块                
 规模：地上建筑规模： 109930.89㎡ ;               地下建筑规模:    /               ;               建筑面积: 109930.89 ㎡ ;建筑高度: 30m ;长度: 0 m。               
 招标范围： 投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目的方案设计、初步设计及施工图设计的编制                ;招标内容:                设计 。
三、投标人资格要求
投标人需具备 ： 建筑行业（建筑工程）专业设计甲级及以上 
                本次招标项目 ：                不接受 联合体投标。               
                           
四、是否有投标补偿
是否有投标补偿：                否。
五、招标文件的获取
获取时间： 2021-01-20                 09:00:00 至 2021-01-25                 17:00:00 
                获取文件。                 文件售价：               400 元。
六、投标文件的递交
递交截止时间： 2021-02-09                 14:00:00 
                递交方式：                现场递交文件                
 递交地址：                北京市

友情提醒：报名前与下方联系人索取报名登记表，获取详细的招标以及招标文件。
联系人：袁 先 生

手 机：13021066931
   
邮 箱：13021066931@163.com