中国工程物理研究院电子工程研究所深反应离子刻蚀机(SiC刻蚀)采购项目项目概况招标

中国工程物理研究院电子工程研究所深反应离子刻蚀机(SiC刻蚀)采购项目项目概况招标
深反应离子刻蚀机（SiC刻蚀）招标项目的潜在投标人应获取招标文件，并于2021年3月3日14点15分（北京时间）前递交投标文件。
一、项目基本情况
项目编号：WTSB20122300129 ；     
项目名称：深反应离子刻蚀机（SiC刻蚀）采购项目；
预算金额：350.0万元，投标报价超出采购预算的投标无效； 
限价：344.7万元，投标报价超出限价的投标无效；
资金来源：财政性资金，已落实；              
采购需求：
序号产品名称简要技术要求计量单位数量项目建设地点备注
1深反应离子刻蚀机（SiC刻蚀）用于SiC、玻璃等材料刻蚀；可处理150mm及以下基片；刻蚀均匀性≤±5%。1套交货地点：四川省成都市双流区采购人指定地点
合同履行期限（项目完成时间）：合同签订生效后5个月内完成交货；                                                           
本项目不接受联合体投标；
本项目不接受整机进口产品。
二、申请人的资格要求
1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定：
1.1具有独立承担民事责任的能力；
1.2具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度；
1.3具有履行合同所必须的设备和专业技术能力；
1.4具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录；
1.5参加本次采购活动前3年内，在经营活动中没有重大违法记录；
1.6法律、行政法规规定的其他条件。
2．落实政府采购政策需满足的资格要求：无；
3.本项目的特定资格要求：
3.1参加本次采购活动前3年内，供应商单位及其现任法定代表人、主要负责人不得具有行贿犯罪记录；
3.2截至递交投标文件截止时间，供应商不得为“信用中国”网站、中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）中被列入失信被执行人或重大税收违法案件当事人名单或政府采购严重违法失信行为记录名单中被财政部门禁止参加政府采购活动的供应商（处罚决定规定的时间和地域范围内）；
3.3被列入中国工程物理研究院不良行为记录名单的供应商及其法定代表人名下的其他企业在禁止期内不得参加本次釆购活动；
3.4单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得参加同一合同项下的政府采购活动。为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加该采购项目的其他采购活动；
3.5本项目提出的特定条件：无。
三、获取招标文件
1.凡有意投标者，请于2021年1月26日至2020年2月1日（北京时间，法定公休日、法定节假日除外），上午8:10-11:40，下午14:10-17:50，购买招标文件。
2.招标文件售价：人民币300元/份。
四、提交投标文件截止时间、开标时间
提交投标文件截止时间及开标时间：2021年3月3日14:15（北京时间）。
联系人：李 工
电  话：176 1039 8736
邮  箱：17610398736@163.com  

注：报 名 请 联 系 获 取 投 标 申 请 表  。
————————————————————————————