2024年华中科技大学高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统招标

2024年华中科技大学高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统招标




项目名称：华中科技大学高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统采购项目

预算金额：350.000000万元（人民币）

最高限价（如有）：350.000000万元（人民币）

采购需求：华中科技大学高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统主要技术指标要求：1、基片尺寸：6英寸（兼容小尺寸基片）；2、配备溅射室和进样室双腔室；具体要求见本项目招标文件第三章内容。

合同履行期限：交货期为合同签订后8个月内；质保期为自验收合格之日起1年。

本项目(不接受)联合体投标。

二、申请人的资格要求：

1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；
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2.落实政府采购政策需满足的资格要求：本项目专门面向中小企业采购，本项目所需货物应由中小企业制造，即货物由中小企业生产且使用该中小企业商号或者注册商标（应提供《中小企业声明函》，否则将视为无效投标文件。本文件所称“中小企业”详见《政府采购促进中小企业发展管理办法》财库〔2020〕46号第二条）。

3.本项目的特定资格要求：1）投标人未被列入“信用中国”网站失信被执行人、重大税收违法失信主体、政府采购严重违法失信行为记录名单和“中国政府采购”网站（www.ccgp.gov.cn）政府采购严重违法失信行为记录名单（以评审现场查询结果为准）；2）如国家法律法规对市场准入有要求的还应符合相关规定。

三、获取招标文件

时间：2024年11月07日至2024年11月13日，每天上午8:30至12:00，下午14:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）


本招标项目仅供正式会员查看，您的权限不能浏览详细信息，请联系办理会员入网事宜，成为正式会员后可下载详细招标、报名表格、项目附件和部分项目招标文件等。
联系人：郝亮
手机：13146799092(微信同号)
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